國美館舉辦「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」開幕式

文化部所屬國立臺灣美術館主辦「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」,今(27)日舉辦頒獎典禮暨開幕式,邀請得獎藝術家及入選者一同出席與會,金牌獎得主CléMence FERNANDO、銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO、銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA及優選獎得主Tina WOLFARTH 4位國外得獎藝術家亦來臺出席盛會,由文化部常務次長李連權、國立臺灣美術館館長廖仁義、評審團代表呂燕卿等頒發獎狀,彰顯獲獎藝術家的榮譽。

(左起)評審委員楊明迭、倪朝龍、國美館館長廖仁義、文化部常務次長李連權、評審委員呂燕卿、陳曉朋與出席得獎者、入選者合影

本屆國際版畫雙年展獲得世界各地版畫創作者的迴響與支持,共徵得來自79國的1011件作品。經初審評審團審慎地討論與篩選,再交由國際複審委員多輪謹慎的評選過程,遴選出計50國180件展出作品。其中包含金、銀、銅牌獎各1名、評審團特別獎2名、優選及佳作各5名,共計15件得獎作品。

民眾參觀「中華民國第二十屆國際版畫雙年展

李次長表示,國美館舉辦的「國際版畫雙年展」與波蘭的版畫展,並列世界的兩大版畫展之一,「中華民國國際版畫雙年展」有三大特色,一是國際化,本屆吸引來自全球五大洲、79國1011位藝術家報名參賽;二是各國參展水準十分平均;三是評審非常公平公正。此外,本展有二層重要的意義,一是促進臺灣版畫與國際間的文化交流;二是打造「國際版畫雙年展」成為國際品牌,在國際知名度大增。

文化部常務次長李連權致詞

國美館長廖仁義表示,版畫是人類歷史中很古老的藝術,在臺灣的發展歷史也很悠久,自1960年代後,臺灣民間有很多版畫工作室,學校美術科系亦有教授版畫,在全臺各地有很多傑出的版畫藝術家。因此,國美館舉辦「國際版畫雙年展」,抱持著使命感,希望為整個國際版畫界提供一個表現及得到光榮的舞臺。「國際版畫雙年展」1983年開始舉辦,至今40年,比國美館年紀還要大,本屆共徵得來自世界79國、1011件作品參賽,不但說明國美館在評審過程的專業態度,也更說明臺灣是熱愛和平,能夠欣賞別人優點的國家。

國美館館長廖仁義致詞

金牌獎得主CléMence FERNANDO、銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO、銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA及優選獎得主Tina WOLFARTH 4位國外得獎藝術家亦來臺出席為期2天的活動,顯示藝術家對「中華民國國際版畫雙年展」的重視。

「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」金牌獎作品〈54〉

金、銀、銅牌得獎藝術家特別表達感謝國美館與評審團的青睞,有幸獲獎及參與「中華民國國際版畫雙年展」。金牌獎得主CléMence FERNANDO說,「國美館就像藝術的仙境,能夠在這裡看到自己的作品,非常開心。」,銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO今年即將完成波蘭華沙美術學院的版畫博士學位,來自烏克蘭的她說到親人勇敢留在戰火中,致詞時她特別感謝家人從小對她在藝術創作的支持。銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA提到,2年前因為疫情無法來臺參加本展,當時十分惆悵,4年後重新歸來,十分喜悅。

「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」銀牌獎作品〈Time_and_Passing_III〉
「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」銅牌獎作品〈Flight_Practices,from_the_Series“P_F_A_A_O_A”〉

本屆初審評審團召集人呂燕卿提到,「本屆版畫作品完整度高超,並體現作品的共同性與特殊性。共同性如審美理想與人生關照之傳達,特殊性如各具民族意識與文化特質、多元而獨特」。複審委員陳曉朋表示,「本屆獲獎者的作品充分展現新時代、疫情下的人類生存面向,併用版種、媒材技法多元而帶有科技進步趨向。整體在全球化、普遍性的面相下仍保有性別、國家、區域、種族的個別性,充分展現當代生活的節奏」。

評審委員呂燕卿致詞

國美館指出,本屆榮獲金牌獎的是來自法國的女性藝術家CléMence FERNANDO,以美柔汀雕凹技法創作的作品〈54〉,藉元素重複組合的多樣變化,探索多樣可能的創造性;獲得銀牌獎的是烏克蘭籍的藝術家Irena LAWRUSZKO(現居波蘭),她的作品〈Time and Passing III〉,取材來自廢棄寺廟獲得的靈感,運用蝕刻、金箔技法來營造出時間流逝下頹然的氛圍;來自哥倫比亞的參賽者Orlando MARTINEZ VESGA的作品〈Flight Practices, from the Series“P F A A O A”〉獲得銅牌獎,他擅長利用日常與荒謬行為的對照,呈現出某種不安的平衡,試圖探問打破規則的可能。

國美館館長廖仁義(右7)、金牌獎克蕾蒙絲‧費萳朵(右5)、銀牌獎艾琳娜‧勞瑞斯科(右4)、銅牌獎奧蘭多‧馬丁尼茲‧韋斯加(右3)等本屆得獎、入選者與評審委員合影

「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」即日起於國美館展出,明(28)日上午10點在國美館演講廳辦理的國際版雙展「藝術家座談會」,邀請國內版畫領域專家學者以及本屆獲獎藝術家與會,分享各自的版畫創作理念與歷程,探討國際版畫發展潮流等相關議題;此外還有其他本展相關的推廣教育活動,歡迎藝術愛好者共襄盛舉。各活動詳情,請上國美館網站查詢(http://www.ntmofa.gov.tw)。

「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」
地點:國立臺灣美術館301、302展覽室(臺中市西區五權西路一段2號)
時間:即日起至11月20日,週二至週五09:00-17:00、週六、週日09:00-18:00(每週一休館)

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